光刻工藝工程師
20元以上
杭州
應(yīng)屆畢業(yè)生
本科
杭州
應(yīng)屆畢業(yè)生
本科
- 全勤獎(jiǎng)
- 節(jié)日福利
- 不加班
- 周末雙休
職位描述
該職位還未進(jìn)行加V認(rèn)證,請(qǐng)仔細(xì)了解后再進(jìn)行投遞!
崗位職責(zé):
1、參與光刻工藝開發(fā)以及工藝菜單的確定(包括光刻膠選定、光刻工藝模擬和驗(yàn)證、光刻工藝條件確定;確定光刻曝光、涂膠顯影、測(cè)量程序等);
2、參與inline工藝的SPC關(guān)鍵項(xiàng)CPK穩(wěn)定控制,簡(jiǎn)化流程,降低成本,提高效率;
3、工藝菜單優(yōu)化,改善工藝窗口、工藝一致性和工藝缺陷等;
4、參與出帶準(zhǔn)備工作,負(fù)責(zé)frame cell table的建立、維護(hù)和優(yōu)化和mask JDV等工作;
5、新型工藝、新材料、新技術(shù)等引入、驗(yàn)證和改進(jìn);
6、負(fù)責(zé)記錄機(jī)臺(tái)運(yùn)行狀態(tài)/維護(hù)記錄的備案;
7、技術(shù)創(chuàng)新和經(jīng)驗(yàn)積累(撰寫專利、工藝開發(fā)報(bào)告、工藝優(yōu)化報(bào)告、典型工藝難題調(diào)查報(bào)告等)。
任職要求:
1、具有半導(dǎo)體光刻工藝開發(fā)、光刻量測(cè)設(shè)備(CDSEM機(jī),迭代測(cè)量?jī)x,目檢機(jī)臺(tái),缺陷探測(cè)儀和缺陷分析儀等) 3年以上的實(shí)際管理/維護(hù)經(jīng)驗(yàn)(具備在8-12寸半導(dǎo)體工藝平臺(tái)工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先);
2、創(chuàng)新能力和動(dòng)手能力強(qiáng),并具有較強(qiáng)的分析能力;
3、能熟練使用office、JMP及工藝相關(guān)軟件,有行業(yè)相關(guān)的英文讀寫能力。
1、參與光刻工藝開發(fā)以及工藝菜單的確定(包括光刻膠選定、光刻工藝模擬和驗(yàn)證、光刻工藝條件確定;確定光刻曝光、涂膠顯影、測(cè)量程序等);
2、參與inline工藝的SPC關(guān)鍵項(xiàng)CPK穩(wěn)定控制,簡(jiǎn)化流程,降低成本,提高效率;
3、工藝菜單優(yōu)化,改善工藝窗口、工藝一致性和工藝缺陷等;
4、參與出帶準(zhǔn)備工作,負(fù)責(zé)frame cell table的建立、維護(hù)和優(yōu)化和mask JDV等工作;
5、新型工藝、新材料、新技術(shù)等引入、驗(yàn)證和改進(jìn);
6、負(fù)責(zé)記錄機(jī)臺(tái)運(yùn)行狀態(tài)/維護(hù)記錄的備案;
7、技術(shù)創(chuàng)新和經(jīng)驗(yàn)積累(撰寫專利、工藝開發(fā)報(bào)告、工藝優(yōu)化報(bào)告、典型工藝難題調(diào)查報(bào)告等)。
任職要求:
1、具有半導(dǎo)體光刻工藝開發(fā)、光刻量測(cè)設(shè)備(CDSEM機(jī),迭代測(cè)量?jī)x,目檢機(jī)臺(tái),缺陷探測(cè)儀和缺陷分析儀等) 3年以上的實(shí)際管理/維護(hù)經(jīng)驗(yàn)(具備在8-12寸半導(dǎo)體工藝平臺(tái)工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先);
2、創(chuàng)新能力和動(dòng)手能力強(qiáng),并具有較強(qiáng)的分析能力;
3、能熟練使用office、JMP及工藝相關(guān)軟件,有行業(yè)相關(guān)的英文讀寫能力。
工作地點(diǎn)
地址:杭州臨安區(qū)青山湖街道勵(lì)新路9號(hào)
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職位發(fā)布者
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2025-12-03 11:41:51
1086人關(guān)注
注:聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)說是在無錫人才網(wǎng)上看到的。
